X射線熒光光譜儀是一種常用的光譜技術，既可用于材料的組成成分分析，又可用于涂層和多層薄膜厚度的測量等。與所有的分析儀器一樣，在做出購買決定前應當考慮許多因素，例如應用領域等細節(jié)。
 

　　X射線的產生：
 

　　根據(jù)經(jīng)典電磁理論，運動的帶電粒子的運動速度發(fā)生改變時會向外輻射電磁波。實驗室中常用的K射線源便是利用這一原理產生的：利用被高壓加速的電子轟擊金屬靶，電子被金屬靶所減速，便向外輻射X射線。這些X射線中既包含了連續(xù)譜線，也包括了特征譜線。
 

　　基本原理：
 

　　XRF工作原理是X射線光管發(fā)出的初級X射線激發(fā)樣品中的原子，產生特征X射線，通過分析樣品中不同元素產生的特征熒光X射線波長(或能量)和強度，可以獲得樣品中的元素組成與含量信息，達到定性定量分析的目的。
 

　　X射線是一種波長較短的電磁輻射，通常是指能量范圍在0.1~100 keV的光子。X射線與物質的相互作用主要有熒光、吸收和散射三種。
 

　　X射線熒光光譜儀能夠分析元素周期表中的大部分元素，具體而言，從鈉元素(原子序數(shù)Z=11)到鈾元素(原子序數(shù)Z=92)都可以利用這種技術進行檢測分析。但是對于原子序數(shù)較低的元素(鈦元素Ti，Z=22以下)，空氣會對檢測結果產生較大影響；由低原子序數(shù)元素產生的熒光值通常更低，并且樣品基體中的其它元素有可能會吸收低原子序數(shù)元素的能量輻射。
 

　　通常情況下，用于提高低原子序數(shù)元素的檢測靈敏度的方法主要為將儀器的樣品室抽成真空環(huán)境或者以氦氣(He)沖洗樣品室。